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14.6 偏振光的干涉 人为双折射现象

赵近芳、王登龙主编北京邮电大学出版社《大学物理学(第七版)》大学本科 · 教材与习题双语助读 (Alt+Y)

目前在矿物学、冶金学和生物学方面广泛使用的偏振光显微镜,其基本原理就是利用偏振光的干涉。而光测弹性方法既属于人为双折射现象的应用,又属于偏振光的干涉的应用。本节讨论有关这两个方面的一些基本原理。

14.6.1 椭圆偏振光与圆偏振光 波片

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利用振动方向相互垂直的两个同频率简谐振动,可以获得椭圆偏振光和圆偏振光。获得椭圆偏振光的原理如图 14.18所示,P为偏振片,C为单轴薄晶片,其光轴平行于晶面且与P的透光轴的夹角为 θ 。单色自然光透过偏振片后,成为线偏振光,设其振幅为 E ,光振动方向与晶片C光轴方向的夹角为 θ ,该线偏振光垂直于光轴进入晶片后分解为o光、e光,仍沿原方向前进(此时o光、e光两主平面重合,且就在它们的传播方向与光轴所在的平面内),o光的光振动垂直于主平面(垂直于光轴),e光的光振动则平行于光轴,其振幅分别为 Eₒ = Esin θ, Eₑ = Ecos θ 。由于两光在晶片中的传播速度不同,晶片对o光、e光的主折射率(e光在垂直于光轴方向上的折射率) nₒ 和 nₑ 亦不相同,所以透过厚度为 d 的晶片后,它们之间将出现相位差:

Δ φ = frac 2 πλ (n _ o - n _ e) d (14.3)

式中, λ 是入射单色光的波长。这样两束频率相同、振动方向相互垂直且具有一定相位差的光就合成为椭圆偏振光。合成光矢量末端的轨迹在一般情况下是一个椭圆。适当选择晶片厚度 d ,使得相位差

Δ φ = frac 2 πλ (n _ o - n _ e) d = frac π2

则透过晶片后的合成光为正椭圆偏振光.因为这时 o 光、e 光透过晶片后的光程差为

Δ = (n _ o - n _ e) d = frac λ4

这样厚度的晶片称为四分之一波片.如果光程差等于半波长,晶片就称为二分之一波片.显然,这是对特定波长而言的.

图 14.18 获得椭圆偏振光的原理

当图 14.18 中的晶片 C 为四分之一波片,且 θ = (π)/(4) 时,晶片中 o 光与 e 光的振幅相等,即 Eₒ = Eₑ ,此时透过晶片后的光成为圆偏振光。 如果将晶片 C 换成二分之一波片, θ 仍保持 (π)/(4) ,则 o 光、e 光透过晶片后的相位差为 π ,且振幅相等,合成后仍为线偏振光,不过振动方向将旋转 90^(circ) .

只要满足相干条件,偏振光就和自然光一样,也可以产生干涉现象。图 14.19所示是观察偏振光干涉的实验装置。在图 14.19中, P₁ 、 P₂ 是两个透光轴相互垂直的偏振片,C为薄晶片,其光轴平行于晶体表面。单色自然光垂直入射偏振片 P₁ ,透过偏振片 P₁ 后成为线偏振光,入射到晶片上时分解为o光和e光,透过晶片后则成为光振动方向相互垂直且有一定相位差的两束光。这两束光射入偏振片 P₂ 时,只有与偏振片 P₂ 透光轴平行的分振动才可以通过,这样就得到了两束相干的线偏振光。

图 14.19 观察偏振光干涉的实验装置

图 14.20 是透过偏振片 P₁ 、薄晶片 C 和偏振片 P₂ 的光的振幅矢量图。图中, P₁ 、 P₂ 为两偏振片的透光轴方向,C 为晶片的光轴方向,E 为入射晶片 C 的线偏振光的振幅。透过晶片 C 后,两束光的振幅分别为 Eₒ = E sin θ, Eₑ = E cos θ ,它们的振动方向为 o 光垂直于光轴 C,e 光平行于光轴 C。这两束光透过 P₂ 后的振幅分别为

r l & E _ 2 o = E _ o cos θ = E sin θ cos θ & E _ 2 e = E _ e sin θ = E cos θ sin θ

二者振幅相等.由以上分析可知,透过 P₂ 的两束光是频率相同、振动方向相同、振幅相等和相位差恒定的相干光,因而可以观察到偏振光的干涉现象.在 P₂ 后观察到的光强取决于两束透射光的总相位差

Δ φ = frac 2 πλ (n _ o - n _ e) d + π (14.4)

式中,等号右端第一项为两光通过厚度为 d 的晶片后所产生的相位差;第二项是由于 ±bE₂o 和 ±bE₂e 方向相反而引起的附加相位差.由此可知,干涉的明暗条件为

Δ φ = frac 2 πλ (n _ o - n _ e) d + π = { l l 2 k π & (k = 1, 2, 3, …) (text 干涉加强,视场最亮) (2 k + 1) π & (k = 1, 2, 3, …) (text 干涉减弱,视场最暗) . (14.5)

如果晶片 C 是劈尖形状,则视场中将出现明暗相间的干涉条纹.

图 14.20 偏振光干涉振幅矢量图

如果所用入射光源为白光,则对应不同波长的光,满足各自的干涉条件,视场中将出现彩色干涉图样,这种现象称为色偏振.

某些非晶体在受到外界作用(如机械力、电场或磁场等作用)时,失去各向同性的性质,也呈现出双折射现象,称为人为双折射现象.

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本来透明的各向同性的介质在机械应力作用下,显示光学上的各向异性,这种现象叫作光弹性效应,有时也称作机械双折射或应力双折射。对物体施以压力或张力时,其有效光轴都在应力方向上,并且引起的双折射参数与应力有关。设 n₀ 和 nₑ 分别为受力介质对o光和e光的折射率,则由实验可得

n _ o - n _ e = K P

式中,K 为比例系数,取决于介质的性质;P 是应力(压强). 两偏振光通过厚度为 d 的介质后所产生的相位差为

Δ φ = frac 2 πλ (n _ o - n _ e) d (14.6)

式中, λ 为光在真空中的波长. 利用光弹性效应可以研究机械物体内部应力的分布情况.把待分析的机械零件用透明材料制成模型,并按实际使用时的受力情况对模型施力,于是在各受力部分产生相应的双折射.把模型放在正交的起偏器与检偏器之间,就可以观察到干涉条纹.根据条纹的色彩和形状,可以计算出应力分布情况,这种方法叫作光弹性方法.它在工程技术上已得到广泛应用.

克尔于1875年发现,某些非晶体或液体在强电场作用下,其分子定向排列,从而获得类似于晶体的各向异性性质,这一现象称为克尔效应. 如图 14.21所示,C是装有平板电极且储有非晶体或液体(如硝基苯)的容器,叫作克尔盒.P₁ 、 P₂ 是两个正交的偏振片,使用时最好让它们的偏振化方向与电场方向分别成 ± 45^(circ) 角.未接通电源时,视场中是暗的.接通电源后,视场中由暗转明,说明在电场作用下,非晶体变成双折射晶体.实验表明,盒内非晶体或液体在电场作用下获得单轴晶体的性质,其光轴方向与电场强度 E 的方向平行,入射单色光的波长 λ 与 nₒ 和 nₑ 之间的关系是

n _ o - n _ e = K E ^ 2 λ (14.7)

式中,K 为克尔常数,与材料有关.

图 14.21 研究克尔效应的实验装置

利用克尔效应可制成光断续器——光开关.这种开关的优点在于几乎没有惯性,能随着电场的产生和消失迅即开启和关闭(不超过 10⁻9 s),因而可使光强的变化非常迅速.这种光断续器已广泛用于高速摄影、光速测量及电影、电视等装置中,近年来更多地用作脉冲激光器的Q开关. 在强磁场的作用下,非晶体也能呈现双折射现象,这种现象叫作磁致双折射,详细情况本书不再介绍,感兴趣的读者可自行查阅有关资料.

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